平面拋光機對應的機理其實是由三種原理結合而成的,在平面拋光機中過程當中是會出現化學作用,物理機械磨損以及是表面流動的理論的。
1.化學作用理論。在拋光過程時,工件表面,拋光劑,拋光模和水的作用下,發復雜的化學過程。如,光學玻璃表面發生水解過程,或者硬脆性材料發生化學腐蝕過程。
2.機械磨削理論。拋光是繼研磨之后的工作,其兩者本質相關不大。都是通過尖硬的磨料顆粒對工件表面進行細微切削作用的結果。但拋光用的磨料對于研磨的磨料顆粒更加細微的拋光劑,微小的切削可以在分子大小范圍內進行。拋光模與工件表面吻合相當,拋光時切向力較大,從而使工件表面凹凸的微裂結構被磨切掉,就形成了工件光滑的表面。
3.表面流量理論。工件表面由于高壓和相對運動,摩擦生熱致使表面產生塑性的流動,凸起部分會凹下部分填平,形成光滑的拋光表面。分別有兩種理論:
(1)是根據拋光表面用金鋼石劃成圖案,然后拋掉,而再用酸腐蝕后圖案劃痕再現。
(2)是由拋去厚度計算的拋去重量比實測的大得多,于是就認為拋光的質量填到表面凹凸層的谷部。由此說明流動作用的覆蓋。
綜上所述,拋光過程是極其復雜的,至今也沒有完善統一的結論。以上據說的理論化學作用是必須的,而機械理論是基本的,表面流動理論也存在一定的可能性。