和大家談談平面拋光機的原理

平面拋光機對應的機理其實是由三種原理結合而成的，在平面拋光機中過程當中是會出現化學作用，物理機械磨損以及是表面流動的理論的。

    1.化學作用理論。在拋光過程時，工件表面，拋光劑，拋光模和水的作用下，發復雜的化學過程。如，光學玻璃表面發生水解過程，或者硬脆性材料發生化學腐蝕過程。

    2.機械磨削理論。拋光是繼研磨之后的工作，其兩者本質相關不大。都是通過尖硬的磨料顆粒對工件表面進行細微切削作用的結果。但拋光用的磨料對于研磨的磨料顆粒更加細微的拋光劑，微小的切削可以在分子大小范圍內進行。拋光模與工件表面吻合相當，拋光時切向力較大，從而使工件表面凹凸的微裂結構被磨切掉，就形成了工件光滑的表面。

    3.表面流量理論。工件表面由于高壓和相對運動，摩擦生熱致使表面產生塑性的流動，凸起部分會凹下部分填平，形成光滑的拋光表面。分別有兩種理論：

    （1）是根據拋光表面用金鋼石劃成圖案，然后拋掉，而再用酸腐蝕后圖案劃痕再現。

    （2）是由拋去厚度計算的拋去重量比實測的大得多，于是就認為拋光的質量填到表面凹凸層的谷部。由此說明流動作用的覆蓋。

    綜上所述，拋光過程是極其復雜的，至今也沒有完善統一的結論。以上據說的理論化學作用是必須的，而機械理論是基本的，表面流動理論也存在一定的可能性。